半導體工業的含硅廢水應該怎么處理?
半導體工業的污水應該怎么處理?
方法/步驟
含氟離子廢水處理:
將廢水的p H值調整在6-7左右,再加入的過量的Ca Cl2和適量的絮凝劑,后續會行形成沉淀,部分污泥循環成為載體,在沉淀池中通過重力沉降能夠實現泥水分離。
第一次反應時能夠去除80%的氟,純水設備再一次加入絮凝劑,氟化鈣及其其他形態沉淀,利用污泥泵輸送到污泥沉淀池,用板框式脫水機壓成泥餅外運,這時候產生的壓濾液進入其他的系統進一步處理。
含磷離子廢水處理:
含磷廢水中磷主要以PO43-為主,采用的方法為化學沉淀法和混凝劑沉降法的組合工藝,通過加入Ca Cl2生成難溶于水的Ca5(PO4)3OH沉淀。
一級反應池的p H調整到5-6左右,二級反應池p H調整到8.5-9,三級反應池p H調整到9-9.5(確保完全生成羥基磷酸鈣),純水設備此工藝流程比較簡單,費用也比較低,對于含磷廢水處理有很大的適用性。
與研磨廢水進行混合:
將半導體器件制造中產生的電鍍廢水和研磨廢水進行混合,混合廢水泵入浸沒式膜過濾裝置過濾,過濾的水泵入納濾膜過濾裝置過濾,經過納濾膜過濾裝置過濾的水即可直接回用。純水設備,合肥純水設備
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